Milan Vala | ÚFE

Profesní činnost:

2017–současnost: Vědecký pracovník (od 2021), postdoktorand (2017–2020), tým Nano-Optika, Ústav Fotoniky a Elektroniky AV ČR, Praha, Česká Republika

2016–2017: Postdoktorand, Laboratory of Nanostructures and Biosensing, University of Minnesota, Twin Cities, Minnesota, USA

2005–2016: Postdoktorand (2015–2016), doktorand (2006–2015), odborný pracovník (2005–2006), tým Optické biosenzory, Ústav Fotoniky a Elektroniky AV ČR, Praha, Česká Republika.

M. Vala, Ch. T. Ertsgaard, N. J. Wittenberg and S.H. Oh, "Plasmonic Sensing on Symmetric Nanohole Arrays Supporting High-Q Hybrid Modes and Reflection Geometry", ACS Sensors. 4(12), 3265-3274 (2019) doi:10.1021/acssensors.9b01780

K. Holanová, M. Vala and M. Piliarik, "Optical imaging and localization of prospective scattering labels smaller than a single protein", Optics and Laser Technology. -(109), 323-327 (2019) doi:10.1016/j.optlastec.2018.08.014

M. Vala and J. Homola, "Multiple beam interference lithography: A tool for rapid fabrication of plasmonic arrays of arbitrary shaped nanomotifs", Optics Express. 24(14), 15656-15665 (2016) doi:10.1364/OE.24.015656

H. Vaisocherová-Lísalová, F. Surman, I. Víšová, M. Vala, T. Špringer, M. Ermini, H. Šípová, P. Šedivák, M. Houska, T. Riedel, O. Pop-Georgievski, E. Brynda and J. Homola, "Copolymer Brush-Based Ultralow-Fouling Biorecognition Surface Platform for Food Safety", Analytical Chemistry. 88(21), 10533-10539 (2016) doi:10.1021/acs.analchem.6b02617

M. Vala and J. Homola, "Flexible method based on four-beam interference lithography for fabrication of large areas of perfectly periodic plasmonic arrays", Optics Express. 22(15), 18778-18789 (2014) doi:10.1364/OE.22.018778

Mgr. Milan Vala, Ph.D.

Oblasti vědeckého zájmu:

Profesní činnost:

Vzdělání:

Patenty:

Pro studenty:

Aktivní projekty

Řešitel:

Spoluřešitel:

Člen:

Ukončené projekty

Řešitel:

Spoluřešitel:

Člen:

Publikace

Knihy:

Kapitoly knih:

Odborné články:

O nás

Rychlé odkazy

Kontakt